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C3h9al TMA Tanque de almacenamiento de gas 6,5n 99,99995% de trimetilaluminio
Productos

Gas para botellas especiales

Gas para cilindros electrónicos

Gas para botellas industriales

Gas del cilindro de refrigerante

Gas para cilindros de propano

Gas del depósito de nitrógeno

Mezclas de gases de encargo

gases medicinales

Gas del semiconductor

Gas de soldadura

Gas para alimentos y bebidas

Gas energético

Gas para el sector aeroespacial

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C3h9al TMA Tanque de almacenamiento de gas 6,5n 99,99995% de trimetilaluminio
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C3h9al TMA Tanque de almacenamiento de gas 6,5n 99,99995% de trimetilaluminio

Cuota De Producción: 1 L
Precio: US $650/L
Embalaje Estándar: Contenedor de agua
Período De Entrega: 15 días
Forma De Pago: En el caso de las empresas de servicios de telecomunicaciones:
Capacidad De Suministro: 5000L/month
Información detallada
Descripción del producto
Información detallada
Lugar de origen
China.
Nombre de la marca
CMC
Certificación
COA
Número de modelo
C3h9al
Documento
Manual del producto PDF
Número de modelo.:
de aluminio
Apariencia:
Sin color
Formulación química:
C3h9al
Transporte:
Por mar
Número de modelo:
de aluminio
Paquete de transporte:
El cilindro
Especificación:
El cilindro
Marca registrada:
CMC
Origen:
China.
Código del SH:
2812190091
Capacidad de la fuente:
100t/year
No CAS.:
10025-78-2
Formulario:
C3h9al
EINECS:
7783-82-6
Componente:
Aire puro para la industria
Estándar de grado:
Grado industrial
Propiedad química:
GAS INFLAMABLE
Personalización:
Disponible. Solicitud personalizada
Cantidad de orden mínima:
1 L
Precio:
US $650/L
Detalles de empaquetado:
Contenedor de agua
Tiempo de entrega:
15 días
Condiciones de pago:
En el caso de las empresas de servicios de telecomunicaciones:
Capacidad de la fuente:
5000L/month
Resaltar:

El depósito de gas comprimido C3h9al TMA

,

6.5n depósito de gas comprimido

,

C3h9al Almacenamiento de botellas de gas TMA

Descripción del producto

Descripción del producto

El trimetilaluminio (TMA), también conocido como trimetil de aluminio, es un compuesto organometálico con la fórmula química Al ((CH3) 3. Es un líquido pirofórico que es incoloro y tiene una fuerte,olor desagradableEl TMA es altamente reactivo y se utiliza principalmente como precursor en diversos procesos químicos, particularmente en la industria de semiconductores para la deposición de películas delgadas.

A continuación se presentan algunas de las propiedades y aplicaciones clave del trimetilaluminio:

Propiedades:

  1. Fórmula química: Al ((CH3) 3
  2. Peso molecular: 90,1 g/mol
  3. Punto de ebullición: 125-126°C (257-259°F)
  4. Punto de fusión: -93°C
  5. Densidad: 0,777 g/cm3 a 20°C

Aplicaciones:

  1. Deposición química por vapor (CVD): el TMA se utiliza ampliamente en la industria de semiconductores como precursor en el proceso de deposición química por vapor para depositar películas delgadas de compuestos de aluminio,como el óxido de aluminio (Al2O3)Estas películas son esenciales para la fabricación de dispositivos microelectrónicos.
  2. Deposición de capa atómica (ALD): TMA también se utiliza en la deposición de capa atómica, una técnica que permite la deposición precisa y conformal de películas ultrafinas.El TMA se combina a menudo con otros precursores para depositar películas de alta calidad que contienen aluminio.
  3. Catalización: el trimetilaluminio puede actuar como catalizador o co-catalizador en varias reacciones orgánicas, como los procesos de polimerización e hidroformilación.
  4. Retardantes de llama: el TMA se utiliza a veces como aditivo retardante de llama en ciertos polímeros para mejorar sus propiedades de resistencia al fuego.
  5. Investigación y desarrollo: TMA se emplea en laboratorios de investigación para explorar nuevas rutas sintéticas, desarrollar nuevos materiales y estudiar la química organometálica.

Es importante tener en cuenta que el trimetilaluminio es altamente inflamable y reacciona violentamente con el aire y el agua.incluida la manipulación en un área bien ventilada y utilizando equipos especializados, son necesarias cuando se trabaja con este compuesto.

 

Información básica.
Número del modelo: C3H9Al Fuente Reforma catalítica
Paquete de transporte El cilindro Especificación 7.5L / 5kg
Marca registrada CMC Origen Suzhou, China
Código del SH 2812190091 Capacidad de producción 100 t/año
Descripción del producto
Certificado de análisis
Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9alWholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9alTodos los valores PPM por peso en metal

Método de análisis:ICP-OES-1, Método de análisis de elementos Si&Zn:ICP-OES-D

Impurezas orgánicas u oxígenas por FT-NMR

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Información sobre la empresa:

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd está compuesta por personal capacitado, que combina muchos años de experiencia en la industria del gas. Suministramos gas de cilindro, gas electrónico, etc. y el contenedor de gas, panel,válvulas y accesorios y otros equipos, piezas y servicios de ingeniería a nuestros clientes en China y en todo el mundo; Los productos están involucrados en varios campos industriales, como el chip de semiconductores, la célula solar, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidrioNuestra misión es asociarnos con nuestros clientes globales para proporcionar soporte, soluciones y productos de calidad que sean innovadores, confiables y seguros.
Nuestros productos incluyen principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, helio, gas mezclado con láser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gas mezclado de dopaje (TMB, PH3,B2H6) y otros gases electrónicos.

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Fotografías detalladas

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9alWholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al

Display del taller:

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Taller de almacenamiento:
Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Embalaje y envío

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al

Las etiquetas: 

Gas de fosfina,  

Fosfina gaseosa,  

Tanque de gas comprimido

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Cuota De Producción: 1 L
Precio: US $650/L
Embalaje Estándar: Contenedor de agua
Período De Entrega: 15 días
Forma De Pago: En el caso de las empresas de servicios de telecomunicaciones:
Capacidad De Suministro: 5000L/month
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Lugar de origen
China.
Nombre de la marca
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Certificación
COA
Número de modelo
C3h9al
Documento
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Número de modelo.:
de aluminio
Apariencia:
Sin color
Formulación química:
C3h9al
Transporte:
Por mar
Número de modelo:
de aluminio
Paquete de transporte:
El cilindro
Especificación:
El cilindro
Marca registrada:
CMC
Origen:
China.
Código del SH:
2812190091
Capacidad de la fuente:
100t/year
No CAS.:
10025-78-2
Formulario:
C3h9al
EINECS:
7783-82-6
Componente:
Aire puro para la industria
Estándar de grado:
Grado industrial
Propiedad química:
GAS INFLAMABLE
Personalización:
Disponible. Solicitud personalizada
Cantidad de orden mínima:
1 L
Precio:
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Detalles de empaquetado:
Contenedor de agua
Tiempo de entrega:
15 días
Condiciones de pago:
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Capacidad de la fuente:
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El trimetilaluminio (TMA), también conocido como trimetil de aluminio, es un compuesto organometálico con la fórmula química Al ((CH3) 3. Es un líquido pirofórico que es incoloro y tiene una fuerte,olor desagradableEl TMA es altamente reactivo y se utiliza principalmente como precursor en diversos procesos químicos, particularmente en la industria de semiconductores para la deposición de películas delgadas.

A continuación se presentan algunas de las propiedades y aplicaciones clave del trimetilaluminio:

Propiedades:

  1. Fórmula química: Al ((CH3) 3
  2. Peso molecular: 90,1 g/mol
  3. Punto de ebullición: 125-126°C (257-259°F)
  4. Punto de fusión: -93°C
  5. Densidad: 0,777 g/cm3 a 20°C

Aplicaciones:

  1. Deposición química por vapor (CVD): el TMA se utiliza ampliamente en la industria de semiconductores como precursor en el proceso de deposición química por vapor para depositar películas delgadas de compuestos de aluminio,como el óxido de aluminio (Al2O3)Estas películas son esenciales para la fabricación de dispositivos microelectrónicos.
  2. Deposición de capa atómica (ALD): TMA también se utiliza en la deposición de capa atómica, una técnica que permite la deposición precisa y conformal de películas ultrafinas.El TMA se combina a menudo con otros precursores para depositar películas de alta calidad que contienen aluminio.
  3. Catalización: el trimetilaluminio puede actuar como catalizador o co-catalizador en varias reacciones orgánicas, como los procesos de polimerización e hidroformilación.
  4. Retardantes de llama: el TMA se utiliza a veces como aditivo retardante de llama en ciertos polímeros para mejorar sus propiedades de resistencia al fuego.
  5. Investigación y desarrollo: TMA se emplea en laboratorios de investigación para explorar nuevas rutas sintéticas, desarrollar nuevos materiales y estudiar la química organometálica.

Es importante tener en cuenta que el trimetilaluminio es altamente inflamable y reacciona violentamente con el aire y el agua.incluida la manipulación en un área bien ventilada y utilizando equipos especializados, son necesarias cuando se trabaja con este compuesto.

 

Información básica.
Número del modelo: C3H9Al Fuente Reforma catalítica
Paquete de transporte El cilindro Especificación 7.5L / 5kg
Marca registrada CMC Origen Suzhou, China
Código del SH 2812190091 Capacidad de producción 100 t/año
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Información sobre la empresa:

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd está compuesta por personal capacitado, que combina muchos años de experiencia en la industria del gas. Suministramos gas de cilindro, gas electrónico, etc. y el contenedor de gas, panel,válvulas y accesorios y otros equipos, piezas y servicios de ingeniería a nuestros clientes en China y en todo el mundo; Los productos están involucrados en varios campos industriales, como el chip de semiconductores, la célula solar, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidrioNuestra misión es asociarnos con nuestros clientes globales para proporcionar soporte, soluciones y productos de calidad que sean innovadores, confiables y seguros.
Nuestros productos incluyen principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, helio, gas mezclado con láser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gas mezclado de dopaje (TMB, PH3,B2H6) y otros gases electrónicos.

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Teléfono: +86 18762990415
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