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DETALLES DE LOS PRODUCTOS
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En el caso de los productos de la categoría 2 del presente anexo, se utilizará el término "productos" en el caso de los productos de la categoría 2 del presente anexo.

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Cuota De Producción: 1 kg
Precio: US $50kg
Embalaje Estándar: Contenedor de agua
Período De Entrega: 15 días
Forma De Pago: En el caso de las empresas de servicios de telecomunicaciones:
Capacidad De Suministro: 5000 toneladas/año
Información detallada
Lugar de origen
China.
Nombre de la marca
CMC
Certificación
COA
Número de modelo
NF3
Nombre del producto:
Trifluoruro de nitrógeno
Punto de ebullición:
-129.0 ºC
Presión del cilindro:
Se aplicarán las siguientes medidas:
Estándar del cilindro:
Los datos de las autoridades competentes deben estar disponibles en el sitio web de la autoridad com
Punto de fusión:
-206.79 ºC
Apariencia:
Sin color ni olor
Paquete de transporte:
Transporte del mar
Especificación:
Las demás
Marca registrada:
CMC
Origen:
Suzhou, China
No CAS.:
No incluido
Formulario:
NF3
EINECS:
Las demás:
Componente:
Aire puro para la industria
Estándar de grado:
Grado industrial
Propiedad química:
GAS INFLAMABLE
Personalización:
Disponible. Solicitud personalizada
Cantidad de orden mínima:
1 kg
Precio:
US $50kg
Detalles de empaquetado:
Contenedor de agua
Tiempo de entrega:
15 días
Condiciones de pago:
En el caso de las empresas de servicios de telecomunicaciones:
Capacidad de la fuente:
5000 toneladas/año
Resaltar:

Gas de alta pureza nf3

,

gas nf3 Nitrógeno

,

Gas de la botella de gas de nitrógeno

Descripción del producto

Descripción del producto

El trifluoruro de nitrógeno (NF3) es un compuesto químico compuesto por un átomo de nitrógeno unido a tres átomos de flúor.

  1. Propiedades: El trifluoruro de nitrógeno es un gas incoloro y inodoro a temperatura y presión ambiente.6 grados Fahrenheit) y es estable en condiciones normalesEl NF3 no es inflamable, pero puede soportar la combustión.

  2. Producción: El trifluoruro de nitrógeno se obtiene principalmente mediante la reacción del amoníaco (NH3) con el gas flúor (F2).La reacción suele tener lugar a altas temperaturas y en presencia de un catalizador.La producción a escala industrial de NF3 a menudo implica el uso de un proceso de fluoración utilizando un catalizador de fluoruro metálico.

  3. Aplicaciones: El trifluoruro de nitrógeno tiene diversas aplicaciones en diferentes industrias:

    • Industria electrónica: NF3 se utiliza comúnmente como agente de limpieza en la fabricación de componentes electrónicos, como semiconductores y pantallas planas.Es muy eficaz para eliminar las películas residuales y los contaminantes de las superficies de los dispositivos.

    • Industria de paneles solares: NF3 se utiliza en la producción de paneles solares fotovoltaicos de película delgada.

    • Grabación en plasma: el trifluoruro de nitrógeno se utiliza como grabador de plasma en los procesos de fabricación de semiconductores.Puede eliminar selectivamente ciertos materiales de las superficies reaccionando con ellos en un ambiente de plasma.

    • Industria química: NF3 también se utiliza como agente fluorante en varias reacciones químicas.Puede introducir átomos de flúor en compuestos orgánicos y se utiliza en la síntesis de determinados productos farmacéuticos y agroquímicos..

  4. Impacto medioambiental: el trifluoruro de nitrógeno es un potente gas de efecto invernadero con un alto potencial de calentamiento global (GWP).Tiene un GWP mucho más alto que el dióxido de carbono (CO2) en un horizonte temporal de 100 añosAunque el NF3 está presente en concentraciones relativamente bajas en la atmósfera en comparación con otros gases de efecto invernadero, su larga vida útil atmosférica contribuye al cambio climático.

Vale la pena señalar que el trifluoruro de nitrógeno es un gas tóxico y debe manejarse con precaución.Las medidas de seguridad y los procedimientos de manipulación adecuados deben seguirse al trabajar con NF3 para garantizar la protección de la salud humana y del medio ambiente..

Información básica.

Peso molecular 147.05 Densidad 2.96 kg/m3
Punto de fusión -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. Punto de ebullición -129,0oC
Apariencia Sin color, sin olor No, no lo estoy. 2451
Clase DOT 2.2 y 5.1 Válvula Dispersión 640
Estándar del cilindro Se aplican las siguientes condiciones: Presión del cilindro Se aplicarán las siguientes medidas:
Paquete de transporte Las demás Especificación 99.99%,99.996%
Marca registrada CMC Origen China.
Código del SH 28129011 Capacidad de producción 5000 toneladas/año


 

Especificación:
High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas

 

Especificaciones Estándar de la empresa
NF3 ≥ 99,996%
CF4 No más20 ppm
N2 No más5 ppm
O2+AR No más3 ppm
El CO No más1 ppm
El CO2 No más0.5 ppm
N2O No más1 ppm
SF6 No más2 ppm
Humedad No más1 ppm
Se expresa en HF No más1 ppm

 

Fotografías detalladas

High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas
High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 GasHigh Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas
High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas

 
Perfil de la empresa

High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd está compuesta por personal capacitado, que combina muchos años de experiencia en la industria del gas. Suministramos gas de cilindro, gas electrónico, etc. y el contenedor de gas, panel,válvulas y accesorios y otros equipos, piezas y servicios de ingeniería a nuestros clientes en China y en todo el mundo; Los productos están involucrados en varios campos industriales, como el chip de semiconductores, la célula solar, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidrioNuestra misión es asociarnos con nuestros clientes globales para proporcionar soporte, soluciones y productos de calidad que sean innovadores, confiables y seguros.
Nuestros productos incluyen principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, helio, gas mezclado con láser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gas mezclado de dopaje (TMB, PH3,B2H6) y otros gases electrónicos.
High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas
High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas
 
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DETALLES DE LOS PRODUCTOS
En el caso de los productos de la categoría 2 del presente anexo, se utilizará el término "productos" en el caso de los productos de la categoría 2 del presente anexo.
Cuota De Producción: 1 kg
Precio: US $50kg
Embalaje Estándar: Contenedor de agua
Período De Entrega: 15 días
Forma De Pago: En el caso de las empresas de servicios de telecomunicaciones:
Capacidad De Suministro: 5000 toneladas/año
Información detallada
Lugar de origen
China.
Nombre de la marca
CMC
Certificación
COA
Número de modelo
NF3
Nombre del producto:
Trifluoruro de nitrógeno
Punto de ebullición:
-129.0 ºC
Presión del cilindro:
Se aplicarán las siguientes medidas:
Estándar del cilindro:
Los datos de las autoridades competentes deben estar disponibles en el sitio web de la autoridad com
Punto de fusión:
-206.79 ºC
Apariencia:
Sin color ni olor
Paquete de transporte:
Transporte del mar
Especificación:
Las demás
Marca registrada:
CMC
Origen:
Suzhou, China
No CAS.:
No incluido
Formulario:
NF3
EINECS:
Las demás:
Componente:
Aire puro para la industria
Estándar de grado:
Grado industrial
Propiedad química:
GAS INFLAMABLE
Personalización:
Disponible. Solicitud personalizada
Cantidad de orden mínima:
1 kg
Precio:
US $50kg
Detalles de empaquetado:
Contenedor de agua
Tiempo de entrega:
15 días
Condiciones de pago:
En el caso de las empresas de servicios de telecomunicaciones:
Capacidad de la fuente:
5000 toneladas/año
Resaltar

Gas de alta pureza nf3

,

gas nf3 Nitrógeno

,

Gas de la botella de gas de nitrógeno

Descripción del producto

Descripción del producto

El trifluoruro de nitrógeno (NF3) es un compuesto químico compuesto por un átomo de nitrógeno unido a tres átomos de flúor.

  1. Propiedades: El trifluoruro de nitrógeno es un gas incoloro y inodoro a temperatura y presión ambiente.6 grados Fahrenheit) y es estable en condiciones normalesEl NF3 no es inflamable, pero puede soportar la combustión.

  2. Producción: El trifluoruro de nitrógeno se obtiene principalmente mediante la reacción del amoníaco (NH3) con el gas flúor (F2).La reacción suele tener lugar a altas temperaturas y en presencia de un catalizador.La producción a escala industrial de NF3 a menudo implica el uso de un proceso de fluoración utilizando un catalizador de fluoruro metálico.

  3. Aplicaciones: El trifluoruro de nitrógeno tiene diversas aplicaciones en diferentes industrias:

    • Industria electrónica: NF3 se utiliza comúnmente como agente de limpieza en la fabricación de componentes electrónicos, como semiconductores y pantallas planas.Es muy eficaz para eliminar las películas residuales y los contaminantes de las superficies de los dispositivos.

    • Industria de paneles solares: NF3 se utiliza en la producción de paneles solares fotovoltaicos de película delgada.

    • Grabación en plasma: el trifluoruro de nitrógeno se utiliza como grabador de plasma en los procesos de fabricación de semiconductores.Puede eliminar selectivamente ciertos materiales de las superficies reaccionando con ellos en un ambiente de plasma.

    • Industria química: NF3 también se utiliza como agente fluorante en varias reacciones químicas.Puede introducir átomos de flúor en compuestos orgánicos y se utiliza en la síntesis de determinados productos farmacéuticos y agroquímicos..

  4. Impacto medioambiental: el trifluoruro de nitrógeno es un potente gas de efecto invernadero con un alto potencial de calentamiento global (GWP).Tiene un GWP mucho más alto que el dióxido de carbono (CO2) en un horizonte temporal de 100 añosAunque el NF3 está presente en concentraciones relativamente bajas en la atmósfera en comparación con otros gases de efecto invernadero, su larga vida útil atmosférica contribuye al cambio climático.

Vale la pena señalar que el trifluoruro de nitrógeno es un gas tóxico y debe manejarse con precaución.Las medidas de seguridad y los procedimientos de manipulación adecuados deben seguirse al trabajar con NF3 para garantizar la protección de la salud humana y del medio ambiente..

Información básica.

Peso molecular 147.05 Densidad 2.96 kg/m3
Punto de fusión -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. Punto de ebullición -129,0oC
Apariencia Sin color, sin olor No, no lo estoy. 2451
Clase DOT 2.2 y 5.1 Válvula Dispersión 640
Estándar del cilindro Se aplican las siguientes condiciones: Presión del cilindro Se aplicarán las siguientes medidas:
Paquete de transporte Las demás Especificación 99.99%,99.996%
Marca registrada CMC Origen China.
Código del SH 28129011 Capacidad de producción 5000 toneladas/año


 

Especificación:
High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas

 

Especificaciones Estándar de la empresa
NF3 ≥ 99,996%
CF4 No más20 ppm
N2 No más5 ppm
O2+AR No más3 ppm
El CO No más1 ppm
El CO2 No más0.5 ppm
N2O No más1 ppm
SF6 No más2 ppm
Humedad No más1 ppm
Se expresa en HF No más1 ppm

 

Fotografías detalladas

High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas
High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 GasHigh Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas
High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas

 
Perfil de la empresa

High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd está compuesta por personal capacitado, que combina muchos años de experiencia en la industria del gas. Suministramos gas de cilindro, gas electrónico, etc. y el contenedor de gas, panel,válvulas y accesorios y otros equipos, piezas y servicios de ingeniería a nuestros clientes en China y en todo el mundo; Los productos están involucrados en varios campos industriales, como el chip de semiconductores, la célula solar, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidrioNuestra misión es asociarnos con nuestros clientes globales para proporcionar soporte, soluciones y productos de calidad que sean innovadores, confiables y seguros.
Nuestros productos incluyen principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, helio, gas mezclado con láser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gas mezclado de dopaje (TMB, PH3,B2H6) y otros gases electrónicos.
High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas
High Purity Semiconductor Etching Nitrogen Trifluoride NF3 Gas
 
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