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| Cuota De Producción: | 1 kg |
| Precio: | US $500/kg |
| Embalaje Estándar: | Contenedor de agua |
| Período De Entrega: | 15 días |
| Forma De Pago: | En el caso de las empresas de servicios de telecomunicaciones: |
| Capacidad De Suministro: | 20000 toneladas/año |
El gas NF3 se refiere al trifluoruro de nitrógeno en su estado gaseoso.Es estable y no reacciona con la mayoría de los materiales comunesEl gas NF3 se utiliza comúnmente en diversas aplicaciones industriales, particularmente en las industrias electrónica y de semiconductores.
Como se mencionó anteriormente, el gas NF3 se utiliza como agente de limpieza en la industria de fabricación de productos electrónicos para eliminar residuos de obleas de silicio, cámaras y otros componentes electrónicos.También se utiliza como gravador de plasma en la industria de semiconductores para eliminar selectivamente los materiales durante el proceso de fabricación.Además, el NF3 se utiliza en la producción de células fotovoltaicas de película delgada para paneles solares y como agente fluorante en reacciones químicas.
Cuando se trabaje con gas NF3, es importante seguir las medidas de seguridad adecuadas para garantizar la seguridad personal y prevenir el impacto ambiental.Esto incluye trabajar en zonas bien ventiladas o utilizar sistemas de escape para evitar la acumulación de altas concentraciones de gas NF3.Se debe utilizar equipo de protección adecuado, incluyendo guantes, gafas y protección respiratoria si es necesario.y se deben hacer esfuerzos para controlar y reducir las emisiones debido a su alto potencial de calentamiento global.
En general, el gas NF3 desempeña un papel importante en varias industrias, en particular en los sectores de la electrónica y los semiconductores, debido a sus propiedades de limpieza y grabado.es crucial manejar y utilizar NF3 de manera responsable, siguiendo las directrices de seguridad para proteger tanto la salud humana como el medio ambiente.
| Paquete de transporte: | 47L, 440L | Punto de fusión | -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. |
| Marca registrada | CMC | Punto de ebullición | -129,0oC |
| Especificación | 990,99%, 99,996% | Capacidad de producción | 5000 m3/año |
| Presión del cilindro | Se aplicarán las siguientes medidas: | Válvula | Dispersión 640 |
| Apariencia | Sin color ni olor | Densidad | 2.96 Kg/m3 |
Especificaciones:
| Especificaciones | Estándar de la empresa |
| NF3 | ≥ 99,996% |
| CF4 | No más20 ppm |
| N2 | No más5 ppm |
| O2+AR | No más3 ppm |
| El CO | No más1 ppm |
| El CO2 | No más0.5 ppm |
| N2O | No más1 ppm |
| SF6 | No más2 ppm |
| Humedad | No más1 ppm |
| Se expresa en HF | No más1 ppm |
Fotografía detallada
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| Cuota De Producción: | 1 kg |
| Precio: | US $500/kg |
| Embalaje Estándar: | Contenedor de agua |
| Período De Entrega: | 15 días |
| Forma De Pago: | En el caso de las empresas de servicios de telecomunicaciones: |
| Capacidad De Suministro: | 20000 toneladas/año |
El gas NF3 se refiere al trifluoruro de nitrógeno en su estado gaseoso.Es estable y no reacciona con la mayoría de los materiales comunesEl gas NF3 se utiliza comúnmente en diversas aplicaciones industriales, particularmente en las industrias electrónica y de semiconductores.
Como se mencionó anteriormente, el gas NF3 se utiliza como agente de limpieza en la industria de fabricación de productos electrónicos para eliminar residuos de obleas de silicio, cámaras y otros componentes electrónicos.También se utiliza como gravador de plasma en la industria de semiconductores para eliminar selectivamente los materiales durante el proceso de fabricación.Además, el NF3 se utiliza en la producción de células fotovoltaicas de película delgada para paneles solares y como agente fluorante en reacciones químicas.
Cuando se trabaje con gas NF3, es importante seguir las medidas de seguridad adecuadas para garantizar la seguridad personal y prevenir el impacto ambiental.Esto incluye trabajar en zonas bien ventiladas o utilizar sistemas de escape para evitar la acumulación de altas concentraciones de gas NF3.Se debe utilizar equipo de protección adecuado, incluyendo guantes, gafas y protección respiratoria si es necesario.y se deben hacer esfuerzos para controlar y reducir las emisiones debido a su alto potencial de calentamiento global.
En general, el gas NF3 desempeña un papel importante en varias industrias, en particular en los sectores de la electrónica y los semiconductores, debido a sus propiedades de limpieza y grabado.es crucial manejar y utilizar NF3 de manera responsable, siguiendo las directrices de seguridad para proteger tanto la salud humana como el medio ambiente.
| Paquete de transporte: | 47L, 440L | Punto de fusión | -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. -206.79oC. |
| Marca registrada | CMC | Punto de ebullición | -129,0oC |
| Especificación | 990,99%, 99,996% | Capacidad de producción | 5000 m3/año |
| Presión del cilindro | Se aplicarán las siguientes medidas: | Válvula | Dispersión 640 |
| Apariencia | Sin color ni olor | Densidad | 2.96 Kg/m3 |
Especificaciones:
| Especificaciones | Estándar de la empresa |
| NF3 | ≥ 99,996% |
| CF4 | No más20 ppm |
| N2 | No más5 ppm |
| O2+AR | No más3 ppm |
| El CO | No más1 ppm |
| El CO2 | No más0.5 ppm |
| N2O | No más1 ppm |
| SF6 | No más2 ppm |
| Humedad | No más1 ppm |
| Se expresa en HF | No más1 ppm |
Fotografía detallada
